@article{oai:asahi-u.repo.nii.ac.jp:00014204,
 author = {羽田, 詩子 and HATA, UTAKO and 山口, 佑亮 and 土井, 豊 and DOI, YUTAKA and 藤原, 周 and FUJIWARA, SHUU},
 issue = {2023-02},
 journal = {2023-02},
 month = {2023-02, 2023-04-28},
 note = {ジルコニアに対するレジンセメントの接着強度に及ぼす真空紫外線（VUV）照射の影響について検討した。接触角はVUV 未照射（80.18±3.2°）、照射直後（1分後）（34.2±6.2°）を示し、照射直後に有意に減少した（p ＜ 0.05）。X線光電子分光（XPS）測定から、VUV照射後にジルコニアにOH基が導入されたことが示唆された。本研究では、VUV照射がジルコニアセラミックスに対するレジンセメントの接着強度に及ぼす影響を評価した。剪断試験より、VUV未照射（4.36±1.6MPa）と照射（7.10±4.4MPa）の条件では、照射により有意に接着強さが向上した。照射直後では、②シラン含有プライマー（12.82±3.4MPa）は、①AZプライマー（5.42±2.0MPa）および③シランなしプライマー（5.2±2.0MPa）に対して有意に接着力は向上した。本研究では、VUV照射直後のシラン処理が、ジルコニアとレジンセメントとの接着強度を有意に向上させることが示唆された。これは、シランに結合する可能性のあるOH基が存在することにより説明できる。},
 pages = {2023-02--2023-02},
 title = {ジルコニアに対するレジンセメントの接着強さに及ぼす エキシマ照射の影響},
 volume = {2023-02},
 year = {}
}