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  1. 教育・研究業績データ
  2. 経営学部

真空紫外光(VUV)照射後に各種条件下で保存した親水化チタン基板の特性解析

https://asahi-u.repo.nii.ac.jp/records/7866
https://asahi-u.repo.nii.ac.jp/records/7866
9513697a-82e5-43da-848b-9b247885b134
Item type 朝日大学 教育・研究業績(1)
公開日 2017-10-14
タイトル
タイトル 真空紫外光(VUV)照射後に各種条件下で保存した親水化チタン基板の特性解析
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_1843
資源タイプ other
アクセス権
アクセス権 metadata only access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
業績分類
値 学会発表
教員氏名 神谷, 真子

× 神谷, 真子

WEKO 8627
CiNii ID 1000080181907
e-Rad 80181907

ja 神谷, 真子
kakenhi 朝日大学 33703

en KAMIYA, MASAKO
Chemistry Laboratory, Department of Management and Information studies, Asahi University School of Business Administration

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発行、発表雑誌等、又は発表学会等の名称
値 第58回歯科基礎医学会学術大会
単著、共著の別
値 共同発表
発行又は発表の年月
日付 2016-08-25
概要
値 (担当)資料整理,討論
(概要)真空紫外光(VUV,l=172 nm)をチタン基板に照射し、各種保存液中に保存した後のチタン基板の親水性の変化とチタン基板上での細胞動態について解析した。その結果、リン酸緩衝液(PBS)中で保存したチタン基板の親水性が照射直後と同等に保たれ、細胞培養系評価でもヒト骨髄由来幹細胞(hBMSC)の接着と増殖、骨芽細胞分化で他の条件よりも優れていることを示した
(共同演者)新谷耕平,川木晴美,石槫大嗣,巽 勇介,梅村直己,神谷真子,髙山英次,堀田正人,土井 豊,近藤信夫
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Ver.1 2023-06-23 14:03:14.310646
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