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  1. 教育・研究業績データ
  2. 歯学部

反応性スパッタリングでシリカを被覆したジルコニア基材の安定性

https://asahi-u.repo.nii.ac.jp/records/9773
https://asahi-u.repo.nii.ac.jp/records/9773
a44ec19f-2121-4f96-92a9-fd0fb731f554
Item type 朝日大学 教育・研究業績(1)
公開日 2018-10-29
タイトル
タイトル 反応性スパッタリングでシリカを被覆したジルコニア基材の安定性
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_1843
資源タイプ other
アクセス権
アクセス権 metadata only access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
業績分類
値 学会発表
教員氏名 堀田, 正人

× 堀田, 正人

WEKO 13260

堀田, 正人

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発行、発表雑誌等、又は発表学会等の名称
値 日本バイオマテリアル学会大会(第39回・東京)
単著、共著の別
値 共同発表
発行又は発表の年月
日付 2017-11
概要
値 反応性スパッタリングでジルコニア基材表面にシリカ薄膜を被覆することで親水性が長期にわたり保持できることを見いだし、形成されたシリカ薄膜の安定性について検討した。その結果、スパッタリング処理前後で変わらず、ジルコニア基材の相変態は見られなかった。O2ガス体積割合が5%でスパッタリング処理を施すと、デシケーター中保管3週間後も接触角は20~30°であり、親水性を示した。3週間後のスパッタ処理したジルコニア基材のXPSスペクトルにC1sピークが見られることから、接触角の増大は大気中の炭化物等の吸着によると考えられた。
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Ver.1 2023-06-23 13:39:50.656733
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